粉(fen)體(ti)特(te)性測(ce)試儀應(ying)用(yong)時(shi)要(yao)留意的(de)幾點(dian)

更(geng)新時(shi)間(jian)：2023-02-20

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　　粉(fen)體(ti)特(te)性測(ce)試儀依(yi)據國標(biao)GB/T1482-2010金(jin)屬粉(fen)末流(liu)動性(xing)測(ce)定(ding)，標(biao)準漏鬥法（霍(huo)爾流(liu)速計），GB/T1479.1-2017松裝(zhuang)密(mi)度(du)，GB/11986-89休止(zhi)角測定法。該(gai)儀器結(jie)構(gou)實(shi)現3種測試功(gong)能，粉(fen)末流(liu)動性(xing)、安(an)息角（又稱休止(zhi)角）、松裝(zhuang)密(mi)度(du)（又稱堆積(ji)密(mi)度(du)），是(shi)粉(fen)體(ti)行(xing)業(ye)測試粉(fen)體(ti)特(te)性的(de)理(li)想(xiang)儀器。

　　粉(fen)體(ti)特(te)性測(ce)試儀的(de)特(te)性是(shi)智能(neng)化(hua)系(xi)統(tong)水平高、壹機要(yao)用(yong)、實(shi)際(ji)操(cao)作(zuo)簡單、可(ke)重(zhong)復(fu)性好(hao)、測量(liang)標(biao)準形(xing)式(shi)多(duo)樣(yang)、合(he)適(shi)多種多樣(yang)規範(fan)等(deng)，該(gai)儀器設備的(de)研制，為(wei)粉(fen)體(ti)設備物理(li)性能(neng)側(ce)量出(chu)示了壹個科(ke)學研究的(de)方式(shi)。

　　因為(wei)儀器設備自身(shen)的(de)技(ji)術性(xing)特(te)性，因而(er)規定(ding)人(ren)們(men)在(zai)應(ying)用(yong)時(shi)要(yao)留意以(yi)下幾點(dian)：

　　1、開(kai)關電源(yuan)工作電(dian)壓(ya)應(ying)在(zai)200V～240V中(zhong)間(jian)，當開(kai)關電源(yuan)工作電(dian)壓(ya)不(bu)平穩(wen)，或(huo)者有單脈沖幹撓時(shi),應(ying)配(pei)置高精(jing)密(mi)清潔交(jiao)流(liu)穩(wen)壓(ya)電(dian)源(yuan)。

　　2、此(ci)機器設備應置放穩(wen)定(ding)、堅(jian)固，防止(zhi)振動、敲(qiao)打(da)、避免(mian)滑(hua)掉(diao)。

　　3、在(zai)運送(song)或(huo)挪動時(shi)，應(ying)留意輕拿(na)小(xiao)心輕放，且(qie)不(bu)能碰(peng)撞儀器設備。

　　4、清洗儀器設備表層時(shi)能(neng)用(yong)濕(shi)手巾(jin)蘸(zhan)洗潔劑甩(shuai)幹後擦(ca)洗，不(bu)可(ke)將(jiang)液體(體)註(zhu)入或(huo)濺(jian)入儀器設備的(de)內(內)部(bu)。

　　5、系(xi)統(tong)軟(ruan)件(jian)開(kai)關電源(yuan)不(bu)必在(zai)打(da)開(kai)後(hou)壹瞬(shun)間(jian)關掉。每(mei)壹次開(kai)、關間(jian)隔時(shi)間(jian)應超(chao)過(guo)5秒。

　　6、要常常查驗(yan)保護區線等(deng)電極(ji)連接(jie)線，保證(zheng)系(xi)統(tong)軟(ruan)件(jian)的(de)每個壹部(bu)分都(dou)處(chu)在(zai)優(you)良(liang)的(de)接地裝(zhuang)置情況。

　　7、震動部(bu)件歸(gui)屬於健(jian)身(shen)運動構(gou)件(jian)，對(dui)濺(jian)入到(dao)直線運動軸(zhou)承中的(de)粉(fen)末狀，請(qing)立即(ji)用(yong)軟(ruan)毛(mao)刷清除(chu)整(zheng)潔(jie)。按(an)時(shi)向(xiang)直線運動軸(zhou)承中添加適(shi)量的(de)潤滑脂(zhi)。

上(shang)壹條壹(yi)起(qi)了解壹(yi)下(xia)粉(fen)體(ti)特(te)性測(ce)試儀
下(xia)壹條510-160 空(kong)氣(qi)噴(pen)射(she)篩分(fen)儀使(shi)用(yong)2017年(nian)開(kai)始(shi)研發